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產品詳情

高精度激光位移傳感器

一、項目介紹

高精度激光位移傳感器是利用幾何三角原理,通過測量傳感器發射的激光光束,被被測物體表面反射回來,在傳感器內部的PSD(光敏位置器件)或線陣CCD上的成像位置來計算目標物距離的探測系統。 激光位移傳感器主要用于短距離、高精度測量,其系統測量精度可達1um,分辨率0.1um,滿量程線性度0.1%。激光位移傳感器可對被測量物體的位置、位移等變化實現非接觸測量,其主要應用于檢測物的位移、厚度、振動、距離、直徑等幾何量的測量。

目前相關產品關鍵技術完全被歐美日等西方發達國家壟斷。國內少數科研院所能制作其中部分關鍵部件但技術指標與國外產品相比較有一定差距且成本高昂,產品批量生產工藝欠缺。國內尚無企業擁有此類產品從核心光敏器件、激光源光學系統、微小電信號處理到軟件優化的成套完整的技術及產品。

 

二、技術來源:自主研發制造

 1. 核心光敏器件, PSD(光敏位置器件)和線陣CCD由我方技術人員與美方技術合作。研發及小批量生產在美國進行,資金及生產設備允許的情況下,轉移到國內生產。產品專利及核心技術由我方擁有。產品功能特點及優勢:高靈敏度,小暗電流,抗強光干擾性能良好。

2. 激光源光學系統、微小電信號處理及軟件優化,在國內開發設計。

3. 產品整體研發,調試及生產組裝在國內進行。

三、生產工藝:

光敏位置器件(PSD生產工藝簡介:

首先未摻雜(i型)的硅片經清洗放置于擴散爐內,經擴散在正反表面形成n型層。把背面的n型層用光刻膠保護起來然后將正面的n型層腐蝕掉。去掉光刻膠。 在背面沉積一層氮化硅。將樣品

放置于擴散爐內進行擴散形成p型層。由于氮化硅的保護作用p型雜質不能擴散進入背面。因此只有正面形成了n型層。這樣就形成了p-i-n結構。 在樣品的正面沉積鋁膜 100 nm), 然后用光刻的辦法形成電極。然后腐蝕掉背面的氮化硅。在樣品的背面沉積鋁膜 100 nm)。最后在450°C爐溫中用氮氣退火30分鐘將金屬電極與硅半導體形成歐姆接觸。這樣光敏位置器件就制成了。

  

 


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